F01AI・半導体本命ツルハシ:強い工程ウェハ・レジスト・マスクブランク製品・サービスウェハ・レジスト・マスクブランク採用理由採用理由は未記載ツルハシ型の理由ウェハ・レジスト・マスクブランク/ウェハ・レジスト・マスクブランク根拠資料一次情報 ↗確認日2026-07-12(品質監査更新)
F13マテリアル(重要鉱物・部素材)本命ツルハシ:強い工程レアアース・半導体材料製品・サービスレアアース磁石、ウェハ採用理由認定計画を含む重要材料供給ツルハシ型の理由レアアース・半導体材料/レアアース磁石、ウェハ根拠資料事業 ↗確認日2026-07-12